随着半导体技术的发展，干法刻蚀已经成为工艺步骤中不可或缺的重要步骤，由于干法刻蚀对于薄膜材料具有良好的各项异性和选择比，使得干法刻蚀在纳米级和微...

​近年来，电子束光刻的众多优势凸显出来，通过电子束直写的形式将图形直接转移到晶圆上，不需掩膜版，直写线宽最小可达10 nm，然而这种方法也存在一...

表面分析技术是一种统称，指的是利用电子、光子、离子等与材料表面进行相互作用，分辨范围从微米级到纳米级，测量从表面散射或发射出来的各种离子、电子和...

​在感应耦合等离子体刻蚀的工艺中，影响刻蚀形貌的因素很多，如：工艺参数里有源功率、RF功率、流量比、工作压力、He压、内壁温度。另外，chill...

本篇笔记来源于日常实验工作中的某一个案例。 一、实验设备介绍 SUSS紫外光刻机是设计用于实验室研发，小批量生产的高分辨率光刻系统。SUSS紫外...

超声清洗是大功率超声领域中最为普遍，应用最为广泛的清洗方法和应用技术。超声清洗不仅清洗效率高、效果好，而且可以对复杂零件、半导体、电子器件进行清...

扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope，简称SEM），中文简称扫描电镜，是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微...

​电子束光刻有着较高的灵活性和分辨率，但在实际应用中，设计的图形与最终曝光得到的图形都会存在一定的偏差。造成这一现象的原因有很多，除了工艺上的影...